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| 论文题目: | Suppression of grain boundary migration at cryogenic temperature in an extremely fine nanograined Ni-Mo alloy | |||||||
| 作者: | Hu J, Li JX, Shi YN | |||||||
| 论文出处（相关负责人）: | ||||||||
| 刊物名称: | Journal of Materials Science & Technology | |||||||
| 年: | 2020 | |||||||
| 卷: | 57 | |||||||
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| 页码: | 65-69 | |||||||
| 联系作者: | ||||||||
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