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专利库
专利名称:
一种光响应敏感的碲化铋薄膜和硅基片形成的PN结材料
专利类别:
发明
申请号:
申请日期:
20160328
专利号:
201610183745.5
第一发明人:
王振华；张志东；李名泽；杨亮；赵晓天；高翾
其它发明人:
国外申请日期:
国外申请方式:
专利授权日期:
20190212
缴费情况:
实施情况:
专利证书号:
专利摘要:
状态:
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