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专利库
专利名称:
在单晶硅或多晶硅上制备碳化硅复合涂层的化学气相沉积方法
专利类别:
发明
申请号:
申请日期:
20201113
专利号:
202011269920.5
第一发明人:
唐明强、刘厚盛、崔新宇、王吉强、沈艳芳、熊天英
其它发明人:
国外申请日期:
国外申请方式:
专利授权日期:
20210924
缴费情况:
实施情况:
专利证书号:
专利摘要:
状态:
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