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专利库
专利名称:
一种CVD方法制备SiC的尾气处理装置
专利类别:
实用新型
申请号:
202122893775.4
申请日期:
20211119
专利号:
202122893775.4
第一发明人:
王玉敏、王永才、苏葵、杨锐
其它发明人:
国外申请日期:
国外申请方式:
专利授权日期:
20220527
缴费情况:
实施情况:
专利证书号:
专利摘要:
状态:
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