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专利库
专利名称:
金刚石薄膜连续制备使用的HFCVD设备及其镀膜方法（美国）
专利类别:
发明
申请号:
US11939669
申请日期:
20220117
专利号:
US11939669
第一发明人:
刘鲁生，姜辛，黄楠
其它发明人:
国外申请日期:
国外申请方式:
专利授权日期:
20240326
缴费情况:
实施情况:
专利证书号:
专利摘要:
状态:
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