| 您现在的位置：首页 > 科研成果 > 专利 |
 |
专利库 |
| 专利名称: | 一种抑制面心立方高熵合金中有害晶界析出相析出的晶界调控工艺 | |||||||
| 专利类别: | 发明 | |||||||
| 申请号: | 202211664645.6 | |||||||
| 申请日期: | 20221223 | |||||||
| 专利号: | 202211664645.6 | |||||||
| 第一发明人: | 韩冬 ，杨柏俊，孙文海，王晓明，韩国峰，蔡少鑫，吕威闫，王建强 | |||||||
| 其它发明人: | ||||||||
| 国外申请日期: | ||||||||
| 国外申请方式: | ||||||||
| 专利授权日期: | 20240917 | |||||||
| 缴费情况: | ||||||||
| 实施情况: | ||||||||
| 专利证书号: | ||||||||
| 专利摘要: | ||||||||
| 状态: | ||||||||
|
||||||||