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专利名称: 高度取向纳米MAX相陶瓷和MAX相原位自生氧化物纳米复相陶瓷的制备方法(美国)
专利类别: 发明
申请号: US12151979
申请日期: 20210228
专利号: US12151979
第一发明人: 崔玉友,谢曦,柏春光,杨锐
其它发明人:
国外申请日期:
国外申请方式:
专利授权日期: 20241126
缴费情况:
实施情况:
专利证书号:
专利摘要:
状态:
   

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