功能薄膜及纳米材料的物理、化学和力学性质依赖于其特定的界面及表面结构，而其界面结构依赖于其生长过程，因此研究功能薄膜及纳米材料的生长机理具有非常重要的意义。

　　中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家（联合）实验室功能薄膜与界面研究部功能薄膜与纳米新材料的生长设计与应用课题组长期致力于金刚石、氮化镓等薄膜及纳米材料的微观结构表征及研究，并首次获得在(001)硅衬底生长金刚石薄膜的界面HRTEM，证实了金刚石在硅衬底上直接形核不需要过渡层；发现了一种缺陷诱导的纳米材料的生长机制：碳化硅内的面缺陷诱导石墨烯形核形成碳化硅/石墨烯多级结构，以及氮化镓内位错诱导颗粒形核形成颗粒包裹纳米线的复杂结构。

　　研究部所属沈阳材料科学国家（联合）实验室具有先进的TEM样品制备设备及多台透射电子显微镜，能够实现从样品制备到微观结构观察分析全过程的实验。制样设备包括Gatan的精密离子减薄系统 PIPS 691，Lecai离子减薄仪101，能够制备TEM平面和截面样品。透射电子显微镜包括Tecai G² F20，F30等，配备附件齐全，能够实现样品的选区电子衍射SAED，高分辨成像HRTEM，高角环形暗场像HAADF以及点线面的成分分析等表征。