设备名称：环境扫描电镜

　　型号：Quattro S

　　制造厂家：赛默飞

　　功能用途：材料微观组织形貌观察、材料腐蚀形貌观察、导电性不良样品形貌观察；
　　　　　　　材料微区成分分析；
　　　　　　　材料晶体取向分析材料晶体取向分析。　

　　主要技术指标：

　　高真空分辨率:1KV@3.0nm 低真空分辨率：30KV@1.3nm(SE) 30KV@2.5nm(BSE)环境真空（ESEM）：30KV@1.3nm(SE)；
　　能谱检测元素范围：Be4 ~Am95、有效探测面积：70mm2 ；
　　EBSD像素分辨率：640*480 、角分辨率：0.1度、扫描速度：400点/秒。