《薄膜材料——应力、缺陷形成和表面演化》（中文版）于2007年1月由科学出版社正式出版。该书共628页，约77万字，由我所青年学者卢磊、张广平、史亦农、陶乃镕、张磊、王镇波等翻译，王中光研究员校对及审阅，师昌绪先生为该书写了译序。

　　该书的英文原著《Thin Film Materials—Stress, Defect Formation and Surface Evolution》于2003年12月已由英国剑桥大学出版社出版。作者为著名固体力学家、美国国家工程院院士、Brown大学的L.B. Freund 教授和著名材料科学家、美国国家工程院院士、麻省理工学院的S. Suresh教授。有关薄膜材料制备方法的专著，国内外屡见不鲜，而对影响薄膜性能的应力分析的专著却很少见。作为薄膜材料研究领域唯一一本对薄膜材料中应力及其作用进行全面、系统论述的专著，《薄膜材料——应力、缺陷形成和表面演化》一书不仅总结了过去几十年薄膜材料的发展，而且最重要的是，它不同于已出版的以制备和表征为重点的其他薄膜材料专著，将重点放在了薄膜中内应力的产生、发展及其影响后果方面。因此，该书对于我国从事材料科学前沿领域及薄膜材料研究的科研人员无疑是一本极为有价值的参考资料；对于相关专业的研究生和本科生，也是一本很好的教科书或课外参考资料。