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3种新化合物的衍射数据被国际衍射数据中心收录
 
2010-03-09 | 文章来源:高性能陶瓷材料研究部        【 】【打印】【关闭

  日前,金属所高性能陶瓷材料研究部研究生何灵峰(导师周延春研究员)发现的三种Hf-Al-C新化合物的X-射线衍射数据被国际衍射数据中心(ICDD)收录。有关化合物和JCPDS卡片号为Hf3Al3C5 59-310、Hf3Al4C6 59-311、Hf2Al4C5 59-312。

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