日前，金属所高性能陶瓷材料研究部研究生何灵峰（导师周延春研究员）发现的三种Hf-Al-C新化合物的X-射线衍射数据被国际衍射数据中心(ICDD)收录。有关化合物和JCPDS卡片号为Hf3Al3C5 59-310、Hf3Al4C6 59-311、Hf2Al4C5 59-312。
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