●设备名称：低温恒温电解抛光系统 

　　●研制单位：中科院金属所 

　　●研制时间：2022年 

　　●技术指标：低温恒温槽具备在-40℃–100℃下保持恒温的能力，温度波动度±0.1℃，恒温槽开口尺寸160mm×120mm，内部工作室尺寸250mm×200mm×200mm。配套的多通道恒电位仪单路工作电压范围为0-30V，电流0–3A，串联工作电压范围可达60V，电流0-6A，可以在多种温度，多种电压下进行金属的电解抛光与刻蚀。 

　　●应用领域：金属材料的低温/常温电解抛光与刻蚀。 

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