分析测试_中国科学院金属研究所

序号	设备名称	型号	制造厂家	功能用途
1	场发射扫描电镜	Verios 5 UC	FEI	可用于超高分辨成像、超高分辨率EBSD分析。
2	场发射扫描电镜	ZEISS Gemini SEM 460	德国蔡司	可用于高分辨成像、大面积成像、大束流高速EBSD分析。
3	Zeiss场发射扫描电子显微镜	MERLIN Compact	德国蔡司	材料微观组织形貌观察；材料及各种相的微区成分测定；材料微取向测定。
4	热场发射扫描电子显微镜	Apreo	FEI	材料微观形貌观察、微区成分分析及晶体取向表征等。
5	钨灯丝扫描电镜	S-3400N	日本Hitachi公司	材料微观组织形貌观察；断口形貌观察；材料及各种相的微区成分测定(EDX)；晶粒取向的测定(EBSD)。
6	FEI钨灯丝电镜	QUANTA 450	FEI	材料微观组织形貌观察；断口形貌观察；材料及各种相的微区成分测定；材料微取向测定。
7	原位高温拉伸台	DDS-3	德国K-W公司	适用于扫描电镜中原位研究材料在热-力场中组织演化、失稳、微应变集中规律等。
8	扫描电镜用加热载台	MH1,5	德国K-W公司	适用于扫描电镜中原位观察热场环境中组织演化规律。
9	透射电子显微镜	TalosF200x	赛默飞	形貌观察，结构表征以及成分分析。
10	透射电子显微镜	Tecnai G2 20	FEI	透射电镜样品形貌，相应选区电子衍射观察；微衍射及相干电子衍射观察；配合特征X射线能谱仪(EDS)进行成分分析。
11	透射电子显微镜	JEM-2100Plus	日本电子株式会社	微观组织观察，微区结构分析
12	表面分析系统	ESCALAB Xi+	热电Thermo	材料表面元素及化学状态的分析。
13	表面分析系统	ESCALAB250	热电Thermo	材料表面元素及化学状态的分析。
14	X射线衍射仪	SmartLab	Rigaku	物相定性、定量分析、点阵参数精密化、多峰分离、晶系的确定、结晶度测量、晶粒尺寸及点阵畸变测定。
15	X射线衍射仪	D/Max-2500PC	Rigaku	主要应用领域：金属材料，非金属材料，复合材料，陶瓷材料，晶体材料，非晶体材料。主要用途：物相定性、定量分析、点阵参数精密化、多峰分离、晶系的确定、结晶度测量、晶粒尺寸及点阵畸变测定。
16	X射线衍射仪	XD-5A	岛津	单晶定向。
17	电子探针	EPMA-1600	日本岛津制作所SHIMADZU	可对材料微米区域进行化学成分分析：原子序数在10以上元素的定性和定量分析，原子序数在10以下元素的定性分析及有条件的定量分析；线扫描可获得材料某直线走向的成分分布信息（涂层中元素的浓度梯度曲线）；面扫描可获得材料某一面积上的元素分布信息（元素面分布图象）；用背散射电子像、二次电子像及样品电流像可观察试样的表面形貌及原子序数差别；可对某些元素（依据提供的软件）进行元素状态分析。
18	场发射电子探针	JXA-Ihp200f	JEOL	材料微区化学成分分析及微观形貌观察
19	激光共聚焦显微镜	LSM700	德国蔡司公司	观察样品表面亚μm程度（0.2μm）的三维形态和形貌，测量多种微小的尺寸。
20	接触式表面形貌仪	PGI Novus	英国泰勒公司	测量表面形貌、粗糙度、轮廓、平面度、台阶高度等。
21	白光干涉仪	Micro XAM 3D	美国KLA公司
22	台阶仪	Alpha-step IQ	美国KLA公司
23	三离子束切割仪	Leica EM TIC 3X	德国徕卡公司	适用于切割硬的，软的，多孔的，热敏感的，脆的和轻合金及非均质多相复合型材料，获得高质量切割截面，以适宜于扫描电子显微镜（SEM）微区分析（能谱分析EDS，波谱分析WDS，俄歇分析Auger，背散射电子衍射分析EBSD）和原子力显微镜（AFM）分析。
24	精密氩离子减薄仪系统	691 PIPS	美国Gatan公司	透射电镜样品制备。
25	离子减薄仪	695.C	美国Gatan公司	透射电镜样品制备。
26	全自动振动抛光机	VibroMet 2	美国Buehler公司	对于较难制备的材料以及需要充分去除应力和整体不允许有任何破坏的精密元器件等样品的表面抛光，从而充分的满足材料样品微观分析（尤其是EBSD分析）的需要。
27	凹坑仪	Gatan Model 656	美国Gatan公司	透射电镜样品预制备。
28	粗糙度测量仪	SJ-410	日本三丰	粗糙度测量
29	高分辨快速扫描原子力显微镜	Cypher S	牛津仪	用于对金属材料的微纳结构进行三维成像，同时测量材料的力学、电学性能
30	激光扫描共聚焦显微镜（生物）	FV3000	EVIDENT株式会社	用于生命科学、材料科学、临床研究、药物研发等领域的高端荧光显微成像，可对组织、细胞、类器官、化学材料等样品进行微观荧光成像和分析。