薄膜材料与界面课题组-中国科学院金属研究所
联系我们  金属研究所  中国科学院
仪器设备
材料制备
结构解析
成分分析
性能测试
原位表征
模拟计算
当前栏目:材料制备 回到首页
材料制备
2021-10-30  |          【 】【打印】【关闭



915MHz微博等离子体化学气相沉积系统
Cyrannus/德国Iplas
环形天线耦合技术、高能量密度、均匀区:8英寸


科研型平面热丝气相沉积系统
自主研发
双层水冷、四路气源、沉积区:φ100 mm


平面热丝化学气相沉积系统
自主研制
四路气源、沉积区:φ200mm


连续生产热丝气相沉积系统
自主研制
竖丝+过渡舱设计、可批量生产、沉积区:400×800 cm



竖式热丝气相沉积系统
自主研发
双面镀膜、侧向开门、四路气源


多靶磁控溅射镀膜系统
LAB18/美国KURT
可安装五个靶材、两路气体、适用于金属镀膜,陶瓷膜


电子束蒸发与电阻蒸发复合镀膜系统
DZS-500/沈阳科仪
两种镀膜方法、可选用金属颗粒和金属丝、适用于金属镀膜,化合物膜


有仪器设备方面的需要,请与我们取得联系:史丹 024-83970109 shidan@imr.ac.cn


金属基复合材料&特种焊接与加工研究团队-中国科学院金属研究所

金刚石基材料与表界面催化课题组

版权所有 中国科学院金属研究所 辽ICP备05005387号
地址: 沈阳市沈河区文化路72号 邮编: 110016 电话: 024-83970803